Он отметил, что меньше 10 стран в мире способны самостоятельно производить такое оборудование для микросхем, и Россия теперь в их числе. Создание этого фотолитографа является важным шагом к обеспечению страны собственным производством микроэлектроники и технологической независимостью. Устройство было разработано в партнерстве с белорусским заводом, имеющим большой опыт в этой области. В отличие от зарубежных аналогов, российский фотолитограф использует твердотельный лазер, что делает его мощным, энергоэффективным, долговечным и с более узким спектром излучения. Уже есть заказчик на российский фотолитограф, и специалисты работают над его адаптацией к потребностям производства. Кроме того, в России разрабатывается фотолитограф с разрешением 130 нанометров, планируется завершить его к 2026 году. По словам Собянина, оборот высокотехнологичных производств Москвы увеличился вдвое к 2024 году благодаря производству различного оборудования и электроники.